東京応化工業

業界: 製造業
設立年: 1940年

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企業理念（ミッション・ビジョン・バリュー）

東京応化工業が統合報告書で開示する理念・パーパス・ミッション・ビジョン・バリューを、逐語＋出典ページ付きで掲載。

#e-Material#自由闊達#たゆまざる研鑽

経営理念

自由闊達
技術のたゆまざる研鑽
製品の高度化
社会への貢献

自由闊達、技術研鑽、製品高度化、社会貢献を経営理念に掲げる。

統合報告書 2024年度 p.36

パーパス

社会の期待に化学で応える

化学の力で社会の期待に応える

統合報告書 2023年度 p.2

経営ビジョン

「豊かな未来、社会の期待に化学で応える“The e-Material Global Company™”」

化学を通じて豊かな未来と社会の期待に応える企業を目指す。

統合報告書 2024年度 p.36

ビジョン

豊かな未来、社会の期待に化学で応える"The e-Material Global Company™"

化学で社会の期待に応え、e-Materialのグローバル企業を目指す

統合報告書 2022年度 p.14

無料ダウンロード

製造業533社（全1160社収録）は、理念で“何を約束”しているか

東京応化工業を含む製造業の主要533社のMVV（ミッション・ビジョン・バリュー・パーパス）を、逐語・出典PDF（ページ直リンク）付きで1ファイルに。理念の策定・改定で“横並びの根拠”がそのまま使える Excel（CSV）を無料お届け。収録例: 東京応化工業・アイリスオーヤマ・ダイフク・TAKARA & COMPANY ほか529社

0社
収録企業: 0件
MVV

製造業533社のMVVを比較（1921件・出典付き）

東京応化工業を含む製造業の主要533社（全1160社収録）のミッション・ビジョン・バリュー・パーパスを逐語＋出典ページ付きで横断したCSV（Excel対応）を、勤務先メール宛にお送りします。理念の策定・改定で“横並びの根拠”にそのまま使えます。

業界別のMVV事例まとめを読む製造業のMVV事例データベースを見る

この会社の強み（競争優位性）

東京応化工業が統合報告書で「自社の強み」として掲げる要素を、まず全体像をマインドマップで、続けて報告書の逐語記述・根拠づける数字・具体の事業や製品で示します。数字も具体も、一つひとつ「ソースを表示」から出典ページへ辿れます。

競争優位性

「究極の擦り合わせ」によるトレードオンの積み上げ

フォトレジストは、光源の差異だけでなく、お客様の用途や半導体製造プロセスごとに異なるニーズに合わせて個別に最適化し、「オーダーメイド品」として開発、提供することで初めて、半導体の進化に貢献することができます。

強みを裏づける数字

24.7%

半導体用フォトレジスト全体の世界シェア
実績 2024年

事業の強み

生成AI用半導体向けに、分厚い製品ポートフォリオを展開中

東京応化は現在、生成AI用GPU向けに分厚い製品ポートフォリオを展開することで、収益を大きく拡大させています。
特にHBM（High Bandwidth Memory）向け材料で高いシェアを有し、パッケージ用フォトレジストに加え、DRAM向けのEUV/ArF/KrF用フォトレジストの供給も拡大しています。

競争優位性

世界最先端を走る顧客と並走

サプライヤーとの協創
多くの顧客が存在する米国・韓国・台湾に開発・製造拠点を展開
レガシー製品を含むフルラインアップを、全方位のお客様に展開
イノベーションのエコシステムを形成
優れた技術力を有するベンチャー企業、学術関係者、コンソーシアム等との協働を拡充
最先端の価値をサプライヤーとともに創造
サプライヤーエンゲージメントにより、人権や環境保全への取組みも強化

強みを裏づける数字

84％

海外売上高比率（2024年12月期）
実績 2024年

69％

海外売上高比率（2013年3月期）
実績 2013年

40％未満

海外売上高比率（2000年3月期）
実績 2000年

コア能力

半導体最先端分野や新規事業、新素材関連で戦略的に特許を取得

強みを裏づける数字

318件

特許登録件数
実績 2024年

コア能力

世界最高水準の微細加工技術

１演算あたり消費電力を約1/5000に縮小することに関与し、それに伴う１演算あたり消費電力の削減や動作速度の向上、そして１トランジスタあたりのコスト低減に貢献することで、「脱炭素化の推進」や「AIによる生産性向上」といった「社会の期待」に応え続けています。
足元では、このコアコンピタンスが後工程（→P6-7ご参照）にも活かされ始めています。

強みを裏づける数字

約1/5000に縮小

1演算あたり消費電力
実績

10μm～1.5μm

半導体回路線幅
実績 1970年

2nm

半導体プロセスノード
実績 2025年

競争優位性

当社の祖業をルーツとする「世界最高水準の高純度化技術（製造資本）」

同技術を駆使したファインケミカル製品は戦後間もない日本の多くの「社会の期待」に応えたほか、その後のグローバル展開を経て、世界の最先端を走る半導体メーカーをはじめ多くの顧客に採用いただいています。
世界最高水準の微細加工技術（知的資本）との相互作用によるシナジー効果は特に大きく、お客様の歩留まり改善やコスト低減、環境負荷低減を通じて、先端分野のシェア向上に大きく貢献しています。

強みを裏づける数字

1ppt以下

不純物混入レベル
実績 2023年

東京応化工業は「地域・社会」「イノベ・R&D」で理念と実践が一致

各テーマで「理念として掲げる（言）」と「施策で実践する（行）」の位置を1枚に。右上ほど言行が一致（徹底）、右下は掲げが先行（実践はこれから）を表します。

東京応化工業tok

徹底掲げ先行実践先行余白

人材育成

多様性・DEI

エンゲージメント

健康・安全

人権

脱炭素・気候

循環経済

ガバナンス

コンプラ・倫理

成長戦略

イノベ・R&D

品質・安全

地域・社会

横軸＝理念で掲げる強さ（右ほど強い）／縦軸＝打ち手で体現する強さ（上ほど強い）。右上＝徹底、右下＝掲げ先行、左下＝余白。

徹底（言行一致）: 地域・社会・イノベ・R&D

掲げ先行（掲げるが実践はこれから）: —

この地図の見方と仕組み

何の地図か：人的資本・E/S/Gの14マテリアリティ課題ごとに、その企業が理念・戦略で掲げているか（言）と施策・アクションで実践しているか（行）を1枚に置いたもの。

見方：横軸が「掲げる（言）」、縦軸が「実践（行）」。右上＝徹底（言行一致）、右下＝掲げ先行（掲げていて実践がこれから）、左上＝実践先行（掲げる前に動いている）、左下＝余白（着手前＝伸びしろの領域）。原点はその企業の平均（企業内の相対配置）。

仕組み：理念・戦略の文（言）と施策・アクションの文（行）を Gemini embedding でベクトル化し、14課題それぞれのアンカーへの cosine 類似を算出。課題ごとに言・行の強さを座標にしています。下の「使われたファクト」で、各ファクトがどの課題にどれだけ近いか（cosine%）と原文の引用を確認できます。

# 1. 各ファクトを Gemini で768次元ベクトル化（保存済み context_embedding）
Vs = normalize(embed[ mvv + strategy ])   # 言（理念+戦略）
Vd = normalize(embed[ measure + action ]) # 行（施策+アクション）

# 2. 14マテリアリティ課題のアンカーもベクトル化
M = materiality_axes()          # (14テーマ, 768次元)

# 3. 各群の平均ベクトルを課題軸へ投影（= cosine類似）
say = rowcenter( mean(Vs) @ M.T )   # (14,) 言のテーマ傾き
do  = rowcenter( mean(Vd) @ M.T )   # (14,) 行のテーマ傾き
#   rowcenter(v) = v - v.mean()  ← 企業内で中心化（原点＝自社平均）

# 4. 各課題 t を (say[t], do[t]) に配置
#   右上=徹底 / 右下=掲げ先行 / 左上=実践先行 / 左下=余白

# 表の「近いマテリアリティ」＝ 各ファクトの cosine 上位3課題
sim(fact, theme) = cos( embed(fact), M[theme] )

使われたファクト（理念4・施策0・アクション12）

ファクト・引用（原文）	種別	近いマテリアリティ（cosine類似）
ビジョン豊かな未来、社会の期待に化学で応える"The e-Material Global Company™"	理念	地域・社会 85% ／イノベ・R&D 82% ／成長戦略 82%
経営理念「自由闊達」「技術のたゆまざる研鑽」「製品の高度化」「社会への貢献」	理念	イノベ・R&D 87% ／地域・社会 86% ／人材育成 84%
経営ビジョン「豊かな未来、社会の期待に化学で応える“The e-Material Global Company™”」	理念	地域・社会 85% ／イノベ・R&D 82% ／脱炭素・気候 82%
パーパス社会の期待に化学で応える	理念	地域・社会 88% ／多様性・DEI 81% ／品質・安全 81%
サステナブル半導体材料「PFASフリー製品」の開発環境規制リスクに対応するため、半導体製造向けのPFASフリー対応製品の研究開発に注力する。	アクション	脱炭素・気候 85% ／イノベ・R&D 84% ／成長戦略 83%
2nmプロセスノード対応EUV用フォトレジスト開発業界最先端の回路線幅である2nmプロセスに対応する極端紫外線（EUV）向けレジストを開発・提供する。	アクション	イノベ・R&D 83% ／成長戦略 82% ／脱炭素・気候 80%
営業チャネルのデジタル化とフォロワー獲得 Webサイトの多言語化やSNS・フォロワー1.5万人超の製品情報サイトを通じた営業チャネルを拡充。	アクション	DX 85% ／成長戦略 85% ／エンゲージメント 80%
生成AI・HBM向け半導体材料の製品展開生成AI用GPU向けに、HBM DRAM用材料やパッケージ用フォトレジストなどの分厚い製品群を展開。	アクション	成長戦略 85% ／イノベ・R&D 82% ／多様性・DEI 81%
新規事業領域における注力6分野の製品展開クラウド、光学材料、センシング＆IoT、グリーンエネルギーなどの6大分野向け新規事業を創出する。	アクション	イノベ・R&D 88% ／成長戦略 87% ／地域・社会 84%
MIや計算化学を導入したデジタル開発基盤の構築マテリアルズインフォマティクスを活用して研究開発を効率化し、開発プロセスの見える化を進める。	アクション	DX 87% ／イノベ・R&D 86% ／成長戦略 84%
WHS装置事業譲渡と材料開発への資源集中装置事業をAIメテック社に譲渡し、当社は利益率が高く強みを持つ半導体材料開発に特化する戦略。	アクション	成長戦略 85% ／人材育成 80% ／イノベ・R&D 80%
次世代半導体材料コンソーシアムUS-JOINTへの参画日米の半導体材料・装置メーカー10社が参画する次世代パッケージング技術コンソーシアムに加入。	アクション	イノベ・R&D 81% ／ DX 81% ／成長戦略 81%
先進生産システムを導入した新工場の展開先進的なスマートファクトリー技術を新工場へ導入し、開発から製造までの連携を効率化する。	アクション	DX 83% ／イノベ・R&D 83% ／成長戦略 82%
次世代パワー半導体向けフォトレジスト開発 EVや風力・水力発電などの効率改善に貢献する次世代パワー半導体用のフォトレジストを提供する。	アクション	脱炭素・気候 87% ／イノベ・R&D 85% ／地域・社会 85%
グローバル顧客密着拠点の展開米国、韓国、台湾、中国に顧客密着拠点を構え、開発・製造・営業が一体で現地顧客を迅速にサポートする。	アクション	品質・安全 81% ／成長戦略 81% ／イノベ・R&D 80%
サプライチェーン強化に向けたグローバル設備投資中期経営計画期間中に760億円を投じ、高純度化学薬品の地産地消モデル構築や生産能力の拡充を進める。	アクション	成長戦略 84% ／人材育成 82% ／脱炭素・気候 80%